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名称:邻叠氮萘醌光刻胶;diazonaphthoquinone photoresist
      常用的正性光刻胶。其主要成分有邻叠氮萘醌系化合物、碱溶性高分子类成膜剂(多采用线性酚醛树脂)、溶剂及其他添加剂。通常用弱碱水溶液作为显影液。曝光过程中,见光部分发生光化学反应,由碱不溶变成碱可溶,将溶于碱的见光部分洗去,留下碱不溶的未见光的部分而得到阳图浮雕像。这种材料得到的浮雕图像亲油性强,保存性好,故常用来制作印刷平版及预涂感光版(即PS版)。目前印刷中常用的阳图PS版都属此类感光材料

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