| 名称 |
离子注入气;gas for ion implantation
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| 资料 |
分子式：
CAS号：
性质：离子注入是把离子化的杂质，例如P+，B+，As+加速到高能量状态，然后注入到预定的衬底上。离子注入技术在控制Vth(阈值电压)方面应用得最为广泛。注入的杂质量可通过测量离子束电流而求得。离子注入工艺所用气体称离子注入气，有磷系、硼系和砷系气体。
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| 结构式 |
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更
多
相
关
内
容 |
1) 离子注入;ion implantaion
2) 植入;着床;implantation
3) 离子;ion
4) 离子;ion
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