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名称:离子束抗蚀剂;ion beam resist
      用聚焦离子束作曝光源的抗蚀剂。由于聚焦离子束可以进行扫描诱发辐射化学反应,在固体内的散射范围因质量大要比电子束小两个数量级以上,因而无邻近效应,离子束抗蚀剂可以达到高于电子束抗蚀剂分辨率(0.05μm以下),是进行0.1μm以下图像加工的重要技术。通常的一些辐射线抗蚀剂,如甲基丙烯酸甲酯等均可被用作离子束抗蚀剂。

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