| 名称 |
离子束抗蚀剂;ion beam resist
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| 资料 |
分子式：
CAS号：
性质：用聚焦离子束作曝光源的抗蚀剂。由于聚焦离子束可以进行扫描诱发辐射化学反应，在固体内的散射范围因质量大要比电子束小两个数量级以上，因而无邻近效应，离子束抗蚀剂可以达到高于电子束抗蚀剂的分辨率(0.05μm以下)，是进行0.1μm以下图像加工的重要技术。通常的一些辐射线抗蚀剂，如甲基丙烯酸甲酯等均可被用作离子束抗蚀剂。
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| 结构式 |
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更
多
相
关
内
容 |
1) 离子束感光树脂;离子束抗蚀剂;ion beam resist;ion beam photographic resin
2) 离子;ion
3) 离子;ion
4) 三环唑;比艳;克瘟唑;5-甲基1，2，4-三唑并（3，4-b）苯并噻唑;克瘟灵;稻瘟唑;tricylazole;Beam;Bim;Blascide;El-291(Eli-Lilly)
5) 三唑苯噻;三环唑;克瘟唑;5-甲基-1,2,4-三唑并[3,4-b]苯并噻唑;Tricyclazole;5-Methyl-1,2,4-triazolo[3,4-b]benzothiazole;Beam;Bim;Blascide;1,2,4-Triazolo[3,4-b]benzothiazole, 5-methyl-
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