| 名称 |
离子束感光树脂;离子束抗蚀剂;ion beam resist;ion beam photographic resin
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| 资料 |
分子式：
CAS号：
性质：指以离子束为光源的感光树脂，也称为离子束抗蚀剂ion beam resist。离子束光刻是制造超大规模集成电路超精细加工的最新工艺，其突出优点是高分辨率和高灵敏度，因为离子的质量比电子大得多，没有背散射，其他散射也很小，邻近效应可以忽略。另外离子的大体积和质量也易于被抗蚀剂充分吸收，有利于提高灵敏度。离子束抗蚀剂也分为正性和负性两种，聚甲基丙烯酸甲酯、聚甲基丙烯酸叔丁酯、聚甲基乙烯基酮、聚甲基邻氯代丙烯酸酯、聚丁烯砜、聚三氟乙基邻氯代丙烯酸酯等为常见正性离子束抗蚀剂。聚乙烯醇肉桂酸酯、聚丙烯酸乙酯-甲基丙烯酸缩水甘油酯、聚溴代苯乙烯等为负性离子束抗蚀剂。一般电子束抗蚀剂均可用作离子束抗蚀剂使用。
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| 结构式 |
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更
多
相
关
内
容 |
1) 离子束抗蚀剂;ion beam resist
2) 感光高分子;为光敏高分子;光功能高分子;感光树脂;photosensitive resin;photosensitive polymer;photoresponsive polymer
3) 感光树脂;photosensitive resin
4) 感光树脂
5) 树脂;resin
6) 树脂;resin
7) 离子;ion
8) 离子;ion
9) 三环唑;比艳;克瘟唑;5-甲基1，2，4-三唑并（3，4-b）苯并噻唑;克瘟灵;稻瘟唑;tricylazole;Beam;Bim;Blascide;El-291(Eli-Lilly)
10) 三唑苯噻;三环唑;克瘟唑;5-甲基-1,2,4-三唑并[3,4-b]苯并噻唑;Tricyclazole;5-Methyl-1,2,4-triazolo[3,4-b]benzothiazole;Beam;Bim;Blascide;1,2,4-Triazolo[3,4-b]benzothiazole, 5-methyl-
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