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文献名称:磁控反应溅射镀膜设备充气系统设计的几个问题
    前言:本文简要地讨论了磁控反应溅设备充气流均匀性的设计原理,质量流量控制器的选用原则和工作压力的控制方法。
    The design principle for the uniformity of the filling flow of the magnetron reactive sputtering equipment, the selection principle of the controller for quality and flow as well as the control method of the operation pressure are briefly introduced in this paper.
文献名称 磁控反应溅射镀膜设备充气系统设计的几个问题
Article Name
英文(英语)翻译
Some Problems for the Design of the Filling Gas System of the Magnetron Reactive Sputtering Coating Equipment;
作者 姜宝福;
Author Jiang Baofu (Town and Country Business Management Bureau of Dongling District;Shenyang);
作者单位
Author Agencies
沈阳市东陵区乡镇企业管理局;
文献出处
Article From
中国科学院上海冶金研究所; 材料物理与化学(专业) 博士论文 2000年度
关键词 磁控; 镀膜; 系统设计;
Keywords
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